تنظيف-خليط السيليكون المعالج

المواصفات الفنية:-خليط السيليكون المعالج النظيف

نظرة عامة على المنتج

يتم تصنيع-خليت السيليكون المعالج النظيف باستخدام عمليات الصهر المتقدمة المفلترة والأكسجين-المُدارة لعمليات التصلب. ومن خلال الحفاظ على بيئة حرارية يتم التحكم فيها بشكل صارم، تحمي هذه العملية الاستقرار الهيكلي والكيميائي للمادة منذ المراحل الأولى للتكوين. تتيح تركيبته النظيفة وسلوكه الحراري المحسن كفاءة تحويل كهروضوئية فائقة ومتانة كهربائية طويلة الأمد-، مما يضمن أعلى مستوى من الأداء عبر بيئات التثبيت المتنوعة والمتطلبة.

المزايا التقنية الأساسية

تكنولوجيا الذوبان المصفاة:يستخدم أنظمة ترشيح عالية الدقة أثناء مرحلة الصهر للتخلص من الجزيئات الدقيقة-والشوائب غير المعدنية، مما ينتج عنه مصفوفة داخلية "أنظف" إلى حد كبير.

الأكسجين-التصلب المُدار:تتحكم عمليات سير العمل المتخصصة بشكل صارم في تركيز الأكسجين وهطول الأمطار، مما يقلل بشكل فعال من خطر التحلل الناتج عن الضوء (LID) في الخلايا الشمسية النهائية.

السلوك الحراري المحسن:يُظهر البليت مقاومة فائقة للإجهاد الحراري، ويحافظ على سلامته البلورية أثناء العمليات ذات درجات الحرارة المرتفعة مثل الانتشار والأكسدة.

تركيبة عالية النقاء-:ومن خلال تقليل الملوثات النزرة، توفر المادة عمرًا عاليًا للحامل، وهو أمر ضروري لتحقيق الفولتية العالية للدائرة المفتوحة- التي تتطلبها الوحدات الحديثة عالية الكفاءة-.

التطبيقات الأولية

-الوحدات الكهروضوئية عالية الكفاءة:الخيار المفضل لخلايا PERC وTOPCon وHJT حيث يعد انخفاض محتوى الأكسجين أمرًا بالغ الأهمية لاستقرار الكفاءة.

دوائر الطاقة الدقيقة:ركيزة موثوقة لمكونات إدارة الطاقة-الصناعية التي تتطلب متانة كهربائية عالية.

الإلكترونيات الضارة بالبيئة-:مُحسّن للألواح الشمسية الخارجية وأجهزة الاستشعار الصناعية التي يجب أن تتحمل التدوير الحراري الشديد.

ملخص البيانات الفنية

معيار المعالجة:الذوبان / الأكسجين المفلتر-التصلب المتحكم فيه

محتوى الأكسجين:مستويات-منخفضة جدًا للأكسجين الخلالي

الاستقرار الحراري:مُحسّن لدورات المعالجة ذات درجات الحرارة المرتفعة

طلب:-الخلايا الكهروضوئية والإلكترونيات الصناعية ذات الكفاءة العالية

الوسم : نظيف-قضبان السيليكون المعالجة، الصين نظيف-مصنعي قضبان السيليكون المعالجة، الموردين، المصنع